Procesado de capas atómicas: Tecnología de grabado en seco de semiconductores

Puntuación:   (5,0 de 5)

Procesado de capas atómicas: Tecnología de grabado en seco de semiconductores (Thorsten Lill)

Opiniones de los lectores

Actualmente no hay opiniones de lectores. La calificación se basa en 2 votos.

Título original:

Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology

Contenido del libro:

Conozca los temas fundamentales y avanzados del grabado con esta guía práctica.

Procesado de capas atómicas: Semiconductor Dry Etching Technology ofrece un recurso práctico para comprender las tecnologías de grabado y sus aplicaciones. El distinguido científico, ejecutivo y autor ofrece a los lectores información en profundidad sobre las diversas tecnologías de grabado utilizadas en la industria de los semiconductores, incluyendo el grabado térmico, isotrópico por capa atómica, radical, asistido por iones y reactivo por iones.

El libro comienza con una breve historia de la tecnología de grabado y el papel que ha desempeñado en la revolución de la tecnología de la información, junto con una recopilación de la terminología de uso común en la industria. A continuación, se analizan diversas técnicas de grabado y se concluye con un análisis de los fundamentos del diseño de reactores de grabado y de los nuevos temas que están surgiendo en este campo, como el papel que desempeña la inteligencia artificial en esta tecnología.

Atomic Layer Processing incluye también una amplia variedad de otros temas, todos los cuales contribuyen al objetivo del autor de proporcionar al lector una comprensión a nivel atómico de la tecnología de grabado en seco suficiente para desarrollar soluciones específicas para las tecnologías de semiconductores existentes y emergentes. Los lectores se beneficiarán de:

⬤ Un análisis completo de los fundamentos de la eliminación de átomos de diversas superficies.

⬤ Un examen de las tecnologías de grabado emergentes, incluyendo el grabado asistido por láser y haz de electrones.

⬤ Un tratamiento del control de procesos en la tecnología de grabado y el papel desempeñado por la inteligencia artificial.

⬤ Análisis de una amplia variedad de métodos de grabado, incluido el grabado térmico o por vapor, el grabado isotrópico por capas atómicas, el grabado radical, el grabado direccional por capas atómicas, etc.

Perfecto para científicos de materiales, físicos de semiconductores y químicos de superficies, Atomic Layer Processing también se ganará un lugar en las bibliotecas de los científicos de ingeniería en la industria y el mundo académico, así como cualquier persona involucrada en la fabricación de tecnología de semiconductores. La estrecha relación del autor con la investigación y el desarrollo corporativos y la investigación académica permite que el libro ofrezca un enfoque multifacético único del tema.

Otros datos del libro:

ISBN:9783527346684
Autor:
Editorial:
Encuadernación:Tapa blanda
Año de publicación:2021
Número de páginas:304

Compra:

Actualmente disponible, en stock.

¡Lo compro!

Otros libros del autor:

Procesado de capas atómicas: Tecnología de grabado en seco de semiconductores - Atomic Layer...
Conozca los temas fundamentales y avanzados del grabado...
Procesado de capas atómicas: Tecnología de grabado en seco de semiconductores - Atomic Layer Processing: Semiconductor Dry Etching Technology

Las obras del autor han sido publicadas por las siguientes editoriales:

© Book1 Group - todos los derechos reservados.
El contenido de este sitio no se puede copiar o usar, ni en parte ni en su totalidad, sin el permiso escrito del propietario.
Última modificación: 2024.11.14 07:32 (GMT)