Principios de las descargas de plasma y el procesamiento de materiales

Opiniones de los lectores

Las reseñas del libro destacan su excelencia como recurso para el estudio de la ciencia del plasma y su exhaustiva actualización de los principios del procesamiento del plasma. El libro está bien escrito y se considera uno de los más prácticos y completos en este campo.

Bien escrito, contenido completo y actualizado, muy informativo para la física y la ingeniería del plasma, fácil de entender, recurso completo, imprescindible para estudiantes y profesionales de la ciencia del plasma.

No se mencionan contras específicas en las reseñas.

(basado en 5 opiniones de lectores)

Título original:

Principles of Plasma Discharges and Materials Processing

Contenido del libro:

Una actualización exhaustiva del clásico de la industria sobre los principios del procesamiento con plasma.

La primera edición de Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, publicada hace más de una década, fue alabada por su completo tratamiento tanto de la física básica del plasma como del procesamiento industrial del plasma, convirtiéndose rápidamente en la principal referencia para estudiantes y profesionales.

La segunda edición ha sido cuidadosamente actualizada y revisada para reflejar los últimos avances en el campo y para aclarar aún más la presentación de los principios básicos. Junto con la cobertura en profundidad de los fundamentos de la física y la química del plasma, los autores aplican la teoría básica a las descargas de plasma, incluyendo los cálculos de los parámetros del plasma y el escalado de los parámetros del plasma con los parámetros de control.

Los temas nuevos y ampliados incluyen:

* Secciones transversales actualizadas.

* Difusión y soluciones de difusión.

* Criterios de Bohm generalizados.

* Tratamiento ampliado de las envolturas de CC.

* Sondas de Langmuir en campos variables en el tiempo.

* Descargas electronegativas.

* Descargas de potencia pulsada.

* Descargas de doble frecuencia.

* Envolturas de rf de alta densidad y distribuciones de energía iónica.

* Histéresis e inestabilidades.

* Descargas helicoidales.

* Descargas de cátodo hueco.

* Deposición física de vapor ionizado.

* Carga diferencial del sustrato.

Con nuevos capítulos sobre plasmas polvorientos y la teoría cinética de las descargas, los estudiantes de postgrado y los investigadores en el campo del procesamiento de plasma encontrarán esta nueva edición más valiosa que nunca.