Magnetismo inducido por defectos en semiconductores de óxido

Título original:

Defect-Induced Magnetism in Oxide Semiconductors

Contenido del libro:

Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors ofrece una visión general de los últimos avances de la ingeniería de defectos para crear nuevos materiales magnéticos y permitir nuevas aplicaciones tecnológicas.

En primer lugar, el libro presenta los mecanismos, el comportamiento y la teoría del magnetismo en semiconductores de óxido y revisa los métodos para inducir magnetismo en estos materiales. A continuación, se analizan estrategias como la deposición por láser pulsado y el sputtering de RF para cultivar materiales nanoestructurados de óxido con magnetismo inducido. A continuación, se repasan los métodos de postdeposición más importantes para inducir el magnetismo en semiconductores de óxido, como el recocido, la irradiación iónica y la implantación iónica. Se presentan ejemplos de magnetismo inducido por defectos en semiconductores de óxido junto con aplicaciones seleccionadas.

Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors es una referencia adecuada para los investigadores del mundo académico y los profesionales de la investigación y el desarrollo en la industria que trabajan en las disciplinas de la ciencia y la ingeniería de materiales.