Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principios, tecnología y aplicaciones

Opiniones de los lectores

Actualmente no hay opiniones de lectores. La calificación se basa en 2 votos.

Título original:

Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications

Contenido del libro:

Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principios, Tecnología y Aplicaciones proporciona información relativa a los aspectos fundamentales de la deposición química de vapor. Este libro analiza las aplicaciones de la deposición química de vapor, que es una tecnología relativamente flexible que puede adaptarse a muchas variaciones.

Organizado en 12 capítulos, este libro comienza con una visión general del examen teórico del proceso de deposición química en fase vapor. A continuación, el texto describe las principales reacciones químicas y revisa los sistemas y equipos de deposición química de vapor utilizados en investigación y producción. En otros capítulos se examinan los materiales depositados por deposición química de vapor.

También se analizan las posibles aplicaciones de la deposición química de vapor en semiconductores y electrónica. El último capítulo trata de la implantación iónica como proceso principal en la fabricación de semiconductores.

Este libro es un valioso recurso para científicos, ingenieros y estudiantes. Los directores de producción y marketing y los proveedores de equipos, materiales y servicios también encontrarán utilidad en este libro.