Deposición química en fase vapor de tungsteno y siliciuros de tungsteno para aplicaciones Vlsi/ULSI

Título original:

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications

Contenido del libro:

Esta monografía condensa la literatura relevante y pertinente sobre CVD selectivo y general de wolframio (W) en un único volumen manejable.

El libro proporciona al lector la información necesaria para poner en marcha, ajustar y mantener con éxito un proceso de CVD-W en una instalación de producción. Se describen la química de deposición de materiales, los equipos, la tecnología de procesos, los desarrollos y las aplicaciones.