Ciencia y tecnología del silicio amorfo y policristalino de capa fina -- 2008: Volumen 1066

Título original:

Amorphous and Plycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology -- 2008: Volume 1066

Contenido del libro:

Las películas finas de silicio amorfo, nanocristalino, microcristalino y policristalino, así como las aleaciones asociadas, se utilizan en una plétora de aplicaciones que van desde las pantallas de matriz activa y las matrices de imágenes hasta los paneles solares.

Estas aplicaciones hacen de la electrónica de gran superficie la tecnología de semiconductores de más rápido crecimiento en la actualidad, llevando los requisitos de los materiales y el rendimiento de los dispositivos a nuevos límites. Este libro reúne a investigadores que comparten sus conocimientos.

Entre los materiales abordados figuran el silicio amorfo, nanocristalino, microcristalino y policristalino, y sus aleaciones con germanio, carbono y otros elementos. Entre los temas tratados se incluyen: la comprensión de los procesos de crecimiento; la producción de películas de alta calidad a altas velocidades de crecimiento o bajas temperaturas; las técnicas de caracterización in situ para controlar el crecimiento; la comprensión de las estructuras amorfas, de fase mixta y cristalinas, junto con los principios para aumentar la cristalinidad; el desarrollo de procesos posteriores a la deposición; la identificación de problemas fundamentales en la estructura electrónica y el transporte de portadores en 3D, 2D y 1D; la comprensión de la metaestabilidad y el papel del hidrógeno; la integración de dispositivos fotovoltaicos y electrónica de capa fina en sistemas sobre vidrio, polímeros flexibles y otros sustratos no convencionales; y el diseño, fabricación y prueba de dispositivos y aplicaciones.