Avances en el depósito químico en fase vapor

Título original:

Advances in Chemical Vapor Deposition

Contenido del libro:

Buscar una metodología de producción escalable de materiales y llevarla del laboratorio a la industria es beneficioso para las nuevas aplicaciones de la vida cotidiana.

Desde esta perspectiva, la deposición química en fase vapor (CVD) ofrece un compromiso entre eficacia, controlabilidad, sintonizabilidad y excelente repetibilidad de ejecución a ejecución en la cobertura de monocapas sobre sustratos. De ahí que el CVD cumpla todos los requisitos para su industrialización en prácticamente todos los ámbitos, incluidos los recubrimientos de polímeros, los metales, los sistemas de filtración de agua, las células solares, etc.

El número especial "Advances in Chemical Vapor Deposition" está dedicado a ofrecer una visión general de los últimos descubrimientos experimentales y a identificar los parámetros y características de crecimiento de perovskitas, TiO2, Al2O3, VO2 y V2O5 con las cualidades deseadas para dispositivos potencialmente útiles.